Книга: Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л. «Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения»

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0, 01-0, 04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10 "-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei< 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (Ю^-ИО-1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30-^80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в...

Формат: Твердая глянцевая, 464 стр.

ISBN: 9785948365190

Купить за 763 руб в