Книга: В. М. Глазов, В. С. Земсков «Физико-химические основы легирования полупроводников»

Физико-химические основы легирования полупроводников

В монографии обобщены результаты исследования принципов и процессов легирования германия и кремния с позиций физической химии и физики твердого тела. В первой главе последовательно и полно изложены принципы легирования полупроводников. Во второй главе собран и проанализирован практически весь имеющийся материал по двойным системам на основе германия и кремния. Графический материал в виде диаграммы состояния с микрообластями твердых растворов является справочным материалом. Третья глава посвящена важному вопросу взаимодействия компонентов в полупроводниковых системах. Собраны практически все исследованные тройные диаграммы состояния для германия и кремния типа полупроводник — акцептор — донор. Вопросы взаимодействия рассматриваются с позиций физико-химического анализа. В последней, четвертой, главе, посвященной методам легирования и получению материала с заданными свойствами, наглядно показана роль диаграммы состояния в определении методов и условий легирования при...

Издательство: "Наука" (1967)

Формат: 70x108/16, 372 стр.

См. также в других словарях:

Поделиться ссылкой на выделенное

Прямая ссылка:
Нажмите правой клавишей мыши и выберите «Копировать ссылку»