Книга: Джесси Рассел «CVD-процесс»
|
Серия: "-" CVD-процесс (англ. Chemical vapor deposition — химическое парофазное осаждение) — химический процесс, используемый для получения высокочистых твёрдых материалов. Процесс часто используется в индустрии полупроводников для созданиятонких плёнок. Как правило, при процессе CVD подложка помещается в пары одного или нескольких веществ, которые, вступая в реакцию и/или разлагаясь, производят на поверхности подложки необходимое вещество. Часто образуется также газообразный продукт реакции, выносимый из камеры с потоком газа. Издательство: "VSD" (2013)
ISBN: 978-5-5096-0941-1 |
Другие книги автора:
| Книга | Описание | Год | Цена | Тип книги |
|---|---|---|---|---|
| Карликов, Вячеслав Александрович | Вячеслав Александрович Карликов (15 (27) декабря 1871, Сырдарьинская область — 17 октября 1937, Бутовский полигон… — VSD, - Подробнее... | бумажная книга | ||
| Инфракрасная фотография | Данное издание представляет собой компиляцию сведений, находящихся в свободномдоступе в среде Интернет в… — VSD, - Подробнее... | бумажная книга | ||
| Очень голодная гусеница | Данное издание представляет собой компиляцию сведений, находящихся в свободномдоступе в среде Интернет в… — VSD, - Подробнее... | бумажная книга |
См. также в других словарях:
CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition химическое парофазное осаждение) хим … Википедия
Углеродные нановолокна — Углеродные нановолокна углеродные цилиндрические наноструктуры, представляющие собой сложенные стопкой слои графена в виде конусов, «чашек» или пластин. Углерод может существовать в форме трубчатых микроструктур называемых нитями или… … Википедия
Вакуумно-дуговое нанесение покрытий — (катодно дуговое осаждение) это физический метод нанесения покрытий (тонких плёнок) в вакууме, путём конденсации на подложку (изделие, деталь) материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде мишени в катодном пятне вакуумной дуги… … Википедия
Газофазная эпитаксия — Газофазная эпитаксия получение эпитаксиальных слоев полупроводников путём осаждения из паро газовой фазы. Наиболее часто применяется в технологии кремниевых, германиевых и арсенид галлиевых полупроводниковых приборов и интегральных… … Википедия
Покрытие (материал) — У этого термина существуют и другие значения, см. Покрытие (значения). Покрытие в материаловедении это нанесённый на объект относительно тонкий поверхностный слой из другого материала. Целью нанесения покрытия является улучшение поверхностных… … Википедия
Химическое осаждение из паровой фазы — 1. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) процесс нанесения внешнего покрытия или покрытия с модификацией поверхности подложки, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика осаждается на нагретую подложку.… … Официальная терминология
